青森県立図書館
>読み上げ・色変換・文字サイズ
>閉じる
トップメニュー
資料検索
資料紹介
お知らせ一覧
Myライブラリ
トップメニュー
>
検索結果一覧
>
本サイトにはJavaScriptの利用を前提とした機能がございます。
お客様の環境では一部の機能がご利用いただけない可能性がございますので、ご了承ください。
資料詳細
詳細蔵書検索
よくある検索
検索条件
著者
大倉貴之
ハイライト
ON
OFF
一覧へ戻る
1 件中、 1 件目
ドライプロセス表面処理大全
関東学院大学材料・表面工学研究所/編 -- 日刊工業新聞社 -- 2019.3 -- 566.7
SDI
予約かごへ
本棚へ
所蔵
所蔵は
1
件です。現在の予約件数は
0
件です。
所蔵館
所蔵場所
請求記号
資料コード
資料区分
帯出区分
状態
県立
B06A
主配架/566.7/ドライプロセ/
10217087090
一般図書
書架
ページの先頭へ
資料詳細
タイトル
ドライプロセス表面処理大全
叢書名
技術大全シリーズ
著者
関東学院大学材料・表面工学研究所
/編
出版者
日刊工業新聞社
出版年
2019.3
ページ数
285p
大きさ
21cm
一般件名
金属表面処理
,
薄膜
NDC分類(9版)
566.7
内容紹介
真空や大気圧下で金属、無機化合物、有機化合物などの薄膜を形成する表面処理方法であるドライプロセス。真空技術や基板前処理などの基礎、PVD、CVD、エッチングなどの原理を解説し、応用例や最新技術等を紹介する。
ISBN
4-526-07968-9
ISBN13桁
978-4-526-07968-9
ページの先頭へ